6月14日，英特尔半导体(大连)有限公司战略发展部总监卢东晖、实验室总监徐友仁、主管工程师陈泳、教育项目经理贺颖博一行4人访问中科院大连化学物理研究所，李灿院士及科技处、研究生部相关人员接待了来宾。

陈泳首先作了题为Intel F68 Introduction & CMOS Process Basic的专题报告，介绍了intel公司的发展历程及intel大连的概况，同时结合自己的研究工作对CMOS Process相关的技术工艺进行了介绍。50余名研究生到场听取了报告。卢东晖等与现场师生就企业文化、技术工艺和校园招聘等进行了交流。

报告会后，卢东晖一行4人与李灿及科技处、研究生部相关人员进行了交流座谈。卢东晖介绍了访问目的并表达了与大连化物所开展科技教育合作的意向。随后，双方就具体事宜进行了深入细致的交流。会后，卢东晖一行参观了洁净能源国家实验室，并与研究所科研人员进行了现场交流。

英特尔半导体（大连）有限公司始建于2007年底，是intel在亚洲设立的第一座芯片厂，同时也是intel在华投资最大的项目，其工厂2009年建成投入使用，2010年10月正式投产，采用业界主流的300毫米硅晶圆和英特尔成熟的65纳米制程工艺生产电脑芯片组产品。Intel大连现有员工1500人，大连化物所已连续3年为其输送优秀毕业生。