6月16日至17日，苏州工业园区第三届高技能人才职业技能竞赛——微纳光刻技术及工艺项目决赛在中科院苏州纳米技术与纳米仿生研究所纳米加工平台举行。决赛设匀胶、显影和版图设计两个环节，从预赛脱颖而出的25家企业的104名选手分2个批次参加了决赛。

在匀胶考试中，裁判组故意为选手准备了干净和带杂质的硅片各一片，让选手自己判断和选择样品来进行匀胶。如果选手没有仔细查看，错误选择了有杂质的样品，那匀胶结果就可想而知了。不少选手在出考场之后的交流中才发觉其中的奥秘，算是吃一堑长一智了。还有选手因为太过紧张，手一直在打颤，直接影响了操作。

显影环节同样考验选手的经验和实力。考核现场准备了2片已经做好光刻曝光好的样品，选手必须在规定时间内完成显影操作，但现场却并没有提供秒表供选手参考显影时间。究竟需要显影多长时间，到什么程度才能得到最佳效果全凭选手自己的经验判断。一次显影效果不好，使用另外一片样品重做，或者超出规定的时间没有做完都会被扣分。

与匀胶、显影操作不同，版图设计需要在电脑上用专门的软件来完成。选手们必须根据考试前拿到的要求，在规定的时间内利用软件完成要求的样品尺寸和形貌设计等操作。该环节不但需要选手对光刻工艺有相当的了解，而且还要具备熟练的软件使用技能才能完成。

本次考核特别利用监控系统进行了现场直播，在候考区的选手可以通过显示器屏幕观看现场考试选手的操作情况，为选手之间相互学习并尽快进入状态创造了有利条件。参赛选手纷纷感叹此次高水平的比赛让他们获益匪浅，不但检验了自己的实践操作技能，更重要的是认识到自身还有巨大的学习提升空间。